光掩膜技術研發(fā)中心

清溢一直奉行技術先導的發(fā)展政策，公司成立之初，國內(nèi)制作大面積光掩模的技術和人才完全空白。在沒有任何外來技術援助的情況下，清溢科研人員在成立的第二年，就成功研制了國內(nèi)首張大面積高精度鉻版掩膜版。經(jīng)過十余年的自主創(chuàng)新和人才培養(yǎng)，形成了完全自主的核心技術和人才團隊。

公司于2002年成立光掩模技術研究開發(fā)中心，并于2007年經(jīng)深圳市科技和信息局批準成立依托于清溢的“深圳市光掩模技術研究開發(fā)中心”。

目前，清溢研發(fā)中心，正以“激活內(nèi)腦、用活外腦”為方針，走產(chǎn)、學、研相結合的道路，聯(lián)合國內(nèi)外相關企業(yè)和科研機構開創(chuàng)新技術來源，通過不斷的自主科技創(chuàng)新，推動中國高精度大面積掩膜版制造行業(yè)趕超國際一流水平。